業務内容

①先端マスク、特にEUVマスク向けの材料、プロセス、後工程装置の研究開発
・シミュレーションを用いた次世代フォトマスク材料設計/開発/特許化
・次世代フォトマスクブランクス/レジスト/導電膜等の開発/特許化
・次世代フォトマスク用装置の選定/導入/プロセス立上げ/技術移管
・フォトマスク及びフォトマスク用材料の計測/分析
・統計手法及び機械学習を用いたプロセス開発/最適化/技術移管

②ナノインプリント向けの材料、プロセス、装置の研究開発
・ナノインプリントの材料設計/開発/特許化
・ナノインプリント用装置の選定/導入/プロセス立上げ/技術移管

また、研究開発にとどまらず、他部門と連携し製造現場へのプロセスの落とし込みまで携わっていただきます。海外顧客、装置や材料メーカーとのやり取り、海外他拠点の技術員との連携を推進しています。

応募要件

【必須】
・研究開発業務経験者・研究開発業務に興味がある方
・チーム内及び他部署との連携が重要な部署のため、チームワークを重視し、コミュニケーション力がある方。
・海外と係りのある業務に積極的、抵抗が無い方。

【歓迎】
・語学力(英語)